CMOS（互补金属氧化物半导体）制造是一项精密而复杂的过程，它是现代电子行业中最重要的制造技术之一。在这个过程中，我们将使用二十个基本制造步骤来创建一个完美的CMOS芯片。这个过程不仅令人着迷，而且也是我们数字时代的基石。 我们需要准备一个纯净的硅片，这是CMOS芯片的基础。这个硅片经过精密的清洗和磨光，以确保表面的纯净度和平整度。 接下来，我们将在硅片上生长一个薄薄的氧化层，这将成为CMOS芯片的绝缘层。这一步骤是通过将硅片浸入高温氧气中完成的，氧气会与硅发生反应形成氧化硅。 然后，我们需要